設備結構 | 箱式立式前開門。(内腔尺寸,中21 00mm × 1 700mm); |
烘烤蕞高(gāo)溫度 | 350 °C; |
常用(yòng)溫度 | 室溫- 300 °C |
真空系統配置 | 主泵由分(fēn)子泵(低溫泵)、擴散泵+前級泵及氣動閥門等 |
空載極限真空度 | 3.0 X 10-4 Pa; |
工作真空度 | 系統暴露大(dà)氣後恢複真空度4× 10-3Pa,小于15分(fēn)鐘(zhōng) |
蒸發源槍 | E型單槍或雙槍,電阻蒸發源 |
離子源 | 霍爾離子源或考夫曼離子源由用(yòng)戶選配 |
深冷(lěng)捕集裝置 | 12P、15P可(kě)以選擇,蕞低溫度可(kě)達一135°C; |
保護裝置 | 門上配備高(gāo)壓保護裝置(防止漏電)以及開門限位裝置 |
膜層控制儀 | 美(měi)國INFICON公司石英晶體控制儀sQC310單探頭(原裝進口) |
其他(tā) | 配1 9寸工控機帶觸摸帶斷電記憶,可(kě)實現真空系統自動及鍍膜連續自動控制。 |
設備專門爲精密光(guāng)學薄膜器件鍍膜生産而設計,各系統單元不n總體結構很好地滿足了(le)光(guāng)學薄膜生産工藝的(de)要求,适用(yòng)于AR、AF、帶通(tōng)膜和(hé)截止膜等各種膜系的(de)鍍膜。膜厚控制系統、性能優良的(de)電子槍、自動化(huà)程度極高(gāo)的(de)鍍膜控制系統等,是光(guāng)學薄膜的(de)理(lǐ)想鍍制設備。